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河北保定技校排名,保定技校前十名 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè)24日消(xiāo)息,国家(jiā)知识产权(quán)局局长申长(zhǎng)雨在新闻发(fā)布会上表示,将统筹(chóu)推进(jìn)各类知识产权法律法规和制度规则(zé)的制(zhì)修(xiū)订工作。其中,修改完善集成电路布图设计保护条例,适(shì)应大规模集(jí)成(chéng)电路(lù)发展需要,助(zhù)力芯片产(chǎn)业做(zuò)大(dà)做强(qiáng),服务数字经济更(gèng)好发(fā)展(zhǎn)。

  加强(qiáng)大数据、人工智能(néng)、基因(yīn)技(jì)术等新领域新业态知识产权规(guī)则(zé)研究,助力相关领域创新发展。同时,积极(jí)参(cān)与知识产权国际规则制定,河北保定技校排名,保定技校前十名更好对接高标(biāo)准国际(jì)经贸规则,助(zhù)力高水平对外开(kāi)放。

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