大家好，来看(kàn)一则(zé)突发消息。

　　美光公司在(zài)华销售的产品未通过网络安全(quán)审查

　　据(jù)网信(xìn)办消息，日前，网(wǎng)络安全审查办公(gōng)室依法对(duì)美(měi)光公(gōng)司在华销售(shòu)产品进行了网(wǎng)络安全审查。

　　审查(chá)发(fā)现，美光公司产(chǎn)品(pǐn)存在(zài)较严重(zhòng)网络安全问题隐(yǐn)患，对(duì)我国关(guān)键信息基础设施供应链造成重大安全(quán)风险，影响我国国家安全。为此，网络(luò)安(ān)全审查办公室依(yī)法作出不予通过(guò)网络安全审查的结(jié)论。按照《网络安全法》等法律法规，我(wǒ)国内关键信(xìn)息基(jī)础设施的运营者应停止采购美(měi)光公司(sī)产品。

　　此次对(duì)美光公司产品(pǐn)进行网(wǎng)络安全审查(chá)，目的是防范产品(pǐn)网络安(ān)全(quán)问题危害国家关键(jiàn)信息基础设施安全，是维(wéi)护国家安(ān)全的必要(yào)措施(shī)。中国(guó)坚定推进高水平对(duì)外(wài)开放，只(zhǐ)要遵守中(zhōng)国法律法规要求，欢迎各(gè)国(guó)企业、各类平(píng)台产品服务进(jìn)入中国市场(chǎng)。

　　3月31日，中国网(wǎng)信网发文称，为保(bǎo)障关键信息(xī)基(jī)础设施供应链安(ān)全，防范(fàn)产(chǎn)品问题隐患造成网络安全风险，维护国家安全，依据《中华(huá)人民共和国国家安全法》《中(zhōng)华人(rén)民共和国网络安(ān)全法(fǎ)》，网络安全审查办公室按照(zhào)《网(wǎng)络安全审查办法》，对美光公司(sī)（Micron）在华销(xiāo)售的产品实施网络安全(quán)审查。

　　美光是美国(guó)的存储芯片行业龙头，也是全球存储芯(xīn)片巨头之一(yī)，2022年收入来自中国(guó)市(shì)场收(shōu)入从此前高峰(fēng)57％降至2022年约11％。根据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，带自动蝴蝶去上班感受，有用蝴蝶上班的吗2021 年三星电子、 铠侠、西部数据、SK 海力(lì)士、美(měi)光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪(shǎn)存）市场(chǎng)份额约为(wèi) 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内(nèi)存）市场份额约为 94.35％。

　　A股上(shàng)市公司中，江波龙、佰维存(cún)储等公司披(pī)露(lù)过美光等(děng)国际存(cún)储厂商为公司供应商。

　　美光在(zài)江(jiāng)波龙采购占比已经(jīng)显著下降，至少已经不是主要大(dà)供应商。

　　公告显示， 2021年美光(guāng)位(wèi)列江波龙第一大存储晶圆供应商，采购约31亿元，占比(bǐ)33.52％；2022年，江(jiāng)波(bō)龙第一大、第二大和第(dì)三大(dà)供应商采购金额占比分别是26.28％、22.带自动蝴蝶去上班感受，有用蝴蝶上班的吗85％和5.76％。

　　目(mù)前江(jiāng)波龙已经(jīng)在存储产(chǎn)业链(liàn)上下游建(jiàn)立国内外广泛(fàn)合作。2022年年报显示，江波(bō)龙与三星、美光、西部数据等主要存储晶(jīng)圆原厂(chǎng)签署了长期合约(yuē)，确保存储晶圆供应的稳定(dìng)性，巩固公(gōng)司(sī)在下游市(shì)场(chǎng)的供应(yīng)优(yōu)势，公(gōng)司也(yě)与国内国产存(cún)储晶圆原厂武汉(hàn)长江存储、合肥长(zhǎng)鑫保持良好的合作。

　　有券商此前就分析，如果(guǒ)美光在中国区(qū)销售受(shòu)到(dào)限制，或将(jiāng)导致(zhì)下游客(kè)户转而(ér)采购国外三(sān)星、 SK海力士，国内长江存(cún)储、长(zhǎng)鑫存储等竞对产品

　　分析称，长存、长鑫的上游(yóu)设备厂或(huò)从中(zhōng)受益。存储器的(de)生(shēng)产已(yǐ)经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工(gōng)艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND带自动蝴蝶去上班感受，有用蝴蝶上班的吗时代，2 维(wéi)到3维的结构(gòu)转变使刻蚀和薄(báo)膜(mó)成为最关键(jiàn)、最(zuì)大(dà)量的加工设备。3D NAND每(měi)层均(jūn)需要经过薄膜沉(chén)积工(gōng)艺步(bù)骤，同时刻蚀目前前沿要刻(kè)到 60：1的(de)深孔，未来可(kě)能会更深的孔或者沟槽，催生更多设(shè)备需(xū)求。据东(dōng)京电子披(pī)露(lù)，薄(báo)膜沉积设备(bèi)及刻蚀占3D NAND产线资本开支合计为75％。自长(zhǎng)江存储被加入(rù)美国限(xiàn)制名单，设备国产化进程加速，看好(hǎo)拓荆科技（薄膜沉积(jī)）等相关公司份额提升，以(yǐ)及(jí)存(cún)储业务(wù)占比较高的华海清科（CMP）、盛美上海（清(qīng)洗(xǐ)）等收入增长(zhǎng)。

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