大家好，来看一(yī)则(zé)突发消息。

　　美光公(gōng)司(sī)在华(huá)销售的产品未通过网络(luò)安全审(shěn)查

　　据网信办消息，日前，网络安(ān)全(quán)审查办公室依法对美光(guāng)公司在(zài)华销售产品进行了网(wǎng)络安全审查。

　　审(shěn)查发(fā)现，美光(guāng)公司产品存(cún)在(zài)较严(yán)重网络安全(quán)问题隐患，对我国关键信息(xī)基础设施(shī)供(gōng)应链造成重(zhòng)大安全(quán)风险，影响我国国家(jiā)安全。为此，网络安全审(shěn)查办公(gōng)室依(yī)法(fǎ)作出(chū)不予(yǔ)通过网络安全审查的(de)结(jié)论。按照《网络安全法》等(děng)法律(lǜ)法规(guī)，我国内(nèi)关(guān)键信息基础设施的运营者应停止采购美光(guāng)公司产(chǎn)品(pǐn)。

　　此次对美光公司产品进行网(wǎng)络安全(quán)审查，目(mù)的是防范(fàn)产品网络安全问题危害(hài)国(guó)家关键(jiàn)信(xìn)息基(jī)础设施安全，是维护(hù)国家安(ān)全的必(bì)要措施。中国坚定推进高水平(píng)对外开(kāi)放，只要遵守中国法(fǎ)律法规(guī)要(yào)求(qiú)，欢迎各国企业(yè)、各(gè)类平台产品服务进入中国市场。

　　3月31日，中(zhōng)国网信网发文(wén)称，为保障(zhàng)关键信息基础设施供应链安全(quán)，防范产品问(wèn)题隐患造成网络安全风险，维(wéi)护国家安全，依据《中(zhōng)华人(rén)民(mín)共(gòng)和(hé)国国(guó)家安(ān)全(quán)法(fǎ)》《中华人民共和国网络安全法》，网络安全审(shěn)查办(bàn)公(gōng)室按照《网络安全(quán)审查(chá)办(bàn)法》，对美光公司（Micron）在华(huá)销售的(de)产品实施网(wǎng)络安(ān)全审查。

　　美光是美国的存储芯片行(xíng)业(yè)龙头，也是全球(qiú)存储芯片巨头之一，2022年收入来(lái)自中国市(shì)场收入(rù)从此前(qián)高峰57％降至2022年(nián)约11％。根据市场咨询机(jī)构 Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计，2021 年三(sān)星电子、 铠(kǎi)侠、西部数据、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在全(quán)球(qiú) NAND Flash （闪存）市(shì)场(chǎng)份额约为 96.76％，三星电子(zi)、 SK 海力士、美(měi)光在(zài)全球 DRAM （内存）市场份额(é)约(yuē)为(wèi) 94.35％。

　　A股上(shàng)市公司中，江波龙、佰维(wéi)存储等公司披露过美光等国际存储(chǔ)厂商(shāng)为公司供应商。

　　美光在(zài)江(jiāng)波龙采(cǎi)购占比已经显著下降(jiàng)，至少已经不是主要大供应商。

　　公告(gào)显示， 2021年美光(guāng)位列江波龙第一大(dà)存储晶圆供应商，采购约(yuē)31亿元，占(zhàn)比(bǐ)33.52％；2022年，江波龙第一大、第二大和(hé)第(dì)三大供应(yīng)商(shāng)采购金额(é)占比分别是26.28％、22.85％白头发从哪开始白，白头发从发梢开始白是什么原因和5.76％。

　　目前(qián)江波龙已经在存(cún)储产业(yè)链(liàn)上(shàng)下游(yóu)建立国内外广泛合作。2022年年报显示，江(jiāng)波龙(lóng)与三星、美光、西(xī)部数(shù)据(jù)等主(zhǔ)要存储晶圆原厂签署(shǔ)了长期合(hé)约(yuē)，确(què)保存储晶圆供应(yīng)的稳定性(xìng)，巩固公(gōng)司在(zài)下游市场(chǎng)的供应优势(shì)，公司也(yě)与国内(nèi)国(guó)产存储晶圆原(yuán)厂武(wǔ)汉长江(jiāng)存储、合肥长鑫(xīn)保持良(liáng)好的合作。

　　有(yǒu)券(quàn)商此前就分析，如果美光(guāng)在中国区销售受到(dào)限制，或将导(dǎo)致下游客(kè)户转而采购国外三星、 SK海力士，国内(nèi白头发从哪开始白，白头发从发梢开始白是什么原因)长江存(cún)储、长鑫(xīn)存储等竞对产品

　　分析称，长存、长鑫的上游设备厂(chǎng)或(huò)从(cóng)中受益。存储器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外(wài)NAND Flash现在已经进入3D NAND时代，2 维到3维的结构(gòu)转变使刻蚀和薄膜成为最关键(jiàn)、最(zuì)大量的(de)加工设备(bèi)。3D NAND每(měi)层均需(xū)要经过薄膜沉积工艺步骤(zhòu)，同时刻蚀目前前沿要(yào)刻到 60：1的深孔，未来(lái)可(kě)能会更深的孔或者(zhě)沟槽，催生更(gèng)多设备需求。据东京电子披露，薄膜沉积设备(bèi)及刻蚀占3D NAND产线(xiàn)资(zī)本开支合计为75％。自长(zhǎng)江存储(chǔ)被加入(rù)美(měi)国限(xiàn)制(zhì)名单(dān)，设备国产化进程加速，看(kàn)好拓荆科技（薄膜(mó)沉积）等相关公司份额提升，以(yǐ)及存储业务占(zhàn)比较高的华海清科(kē)（CMP）、盛美上海(hǎi)（清洗）等(děng)收入增(zēng)长。

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