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沪上两支花暗指谁 沪上两支花是哪两家

沪上两支花暗指谁 沪上两支花是哪两家 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日(rì)消息,国家知识产权局局长申长雨在新闻发布会上表示,将统筹推进各类知(zhī)识产权(quán)法律法规和制度规则的制修(xiū)订工作。其中(zhōng),修改(gǎi)完善集成电路布图设(shè)计(jì)保护条(tiáo)例,适应大规模集成电路发(fā)展需要,助力芯(xīn)片产业(yè)做大(dà)做强,服务数字经济更(gèng)好发展。

  加强大数(shù)据、人工智能、基因技术等新(xīn)领域新(xīn)业态知识产(chǎn)权(quán)规则研究(jiū),助力相关领域创(chuàng)沪上两支花暗指谁 沪上两支花是哪两家新发展。同时,积(jī)极参(cān)与知识产权国际规则制定(dìng),更好对接高标准(zhǔn)国际经贸规则,助力高水平对外开放。

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