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风紧扯呼下一句是什么 风紧扯呼出自哪里 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好(hǎo),来(lái)看一则突发消(xiāo)息。

  美光公司(sī)在华销售的产品未(wèi)通过网络(luò)安全审(shěn)查(chá)

  据网信办消息,日(rì)前,网络安(ān)全审查办公室依法对(duì)美光公司在华销售产品进行了网络安全(quán)审查(chá)。

  审查发现,美光公司产品存在较严重网络安全问题隐患,对我(wǒ)国(guó)关键信息基础(chǔ)设(s风紧扯呼下一句是什么 风紧扯呼出自哪里hè)施供应链(liàn)造成重大安全风险,影响我国国家安全。为此,网络安(ān)全审(shěn)查办公室依法作(zuò)出(chū)不予通(tōng)过网络安全审查的结(jié)论。按照《网(wǎng)络安(ān)全法》等(děng)法律法规,我国内(nèi)关键信息基础设施的运营者应停止采购美光公(gōng)司(sī)产品(pǐn)。

  此次对美光(guāng)公司产品进(jìn)行网络安全审查,目的是防范产品网络安全问题危(wēi)害国(guó)家关(guān)键信(xìn)息基(jī)础设施安全,是维护(hù)国家安全的(de)必要措施。中国坚定推进高水平对外开放,只要遵守中国法律(lǜ)法(fǎ)规要求,欢(huān)迎各国企业、各类平台产品服务进入中(zhōng)国市场。

  半导(dǎo)体突发!中国(guó)出手:停止采购!

  3月(yuè)31日,中国(guó)网(wǎng)信网发文称,为保障关键信(xìn)息基础(chǔ)设施供应链安全(quán),防范产品(pǐn)问题隐患造成网络安全(quán)风险,维护(hù)国家安全,依据《中(zhōng)华人民共和国国(guó)家安全法》《中华人民共和国(guó)网络(luò)安全(quán)法》,网(wǎng)络安(ān)全(quán)审查(chá)办公室(shì)按(àn)照《网络(luò)安全审查办(bàn)法》,对美(měi)光公司(Micron)在华销售的(de)产(chǎn)品实施网络安全审查(chá)。

  半导体突(tū)发!中国出手:停止采购!

  美光是(shì)美国(guó)的存储芯片行业龙头,也是全球存储芯片(piàn)巨头之一,2022年收入来自中国市场(chǎng)收入从此前高峰(fēng)57%降至2022年约11%。根据市(shì)场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠(kǎi)侠、西部数据(jù)、SK 海力士、美(měi)光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额约为 96.76%,三(sān)星电子、 SK 海力士(shì)、美光在全球 DRAM (内存)市场份额约为 94.35%。

  A股上市公司中,江波龙、佰维存(cún)储等公(gōng)司披露过美光(guāng)等国(guó)际(jì)存储厂商为公(gōng)司供应商。

  美光在江(jiāng)波龙(lóng)采购(gòu)占比已经显(xiǎn)著(zhù)下降,至少(shǎo)已经不是主(zhǔ)要大供应商(shāng风紧扯呼下一句是什么 风紧扯呼出自哪里0; line-height: 24px;'>风紧扯呼下一句是什么 风紧扯呼出自哪里)。

  公告显示, 2021年美光位列江波龙第(dì)一大存储晶圆供应商,采购约31亿元,占比33.52%;2022年,江波(bō)龙第一大、第二大和第三大供应(yīng)商采购(gòu)金额占(zhàn)比分别(bié)是26.28%、22.85%和5.76%。

  目(mù)前江(jiāng)波龙已经在存储产业链上下(xià)游(yóu)建立国内外广泛合作。2022年年报显示(shì),江波(bō)龙与三星(xīng)、美光、西部数据等主(zhǔ)要存储晶圆原厂签(qiān)署了长期合(hé)约(yuē),确保存(cún)储晶圆供应的(de)稳定性,巩固公司(sī)在下(xià)游市场的(de)供应优势,公司也与国(guó)内(nèi)国产存储(chǔ)晶圆原厂(chǎng)武(wǔ)汉长江存储、合肥(féi)长鑫保持良好(hǎo)的合作(zuò)。

  有券商(shāng)此前就分析,如果美光在中国区(qū)销售受(shòu)到(dào)限(xiàn)制,或将导致下游客户转而(ér)采购国外三星、 SK海力士,国内长江存储、长鑫(xīn)存储(chǔ)等竞对(duì)产(chǎn)品(pǐn)

  分析(xī)称(chēng),长存、长鑫(xīn)的上(shàng)游设备厂或从中受(shòu)益。存储器(qì)的生(shēng)产已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺(yì)。另外NAND Flash现在(zài)已经进入3D NAND时代,2 维到3维的结构转变使刻蚀和薄(báo)膜成为最(zuì)关(guān)键、最(zuì)大(dà)量(liàng)的加工设备(bèi)。3D NAND每层均需要经过薄膜(mó)沉积工艺步骤,同时刻蚀目前前沿(yán)要刻到 60:1的(de)深孔,未来可能会更深(shēn)的孔或者(zhě)沟槽,催生(shēng)更多(duō)设备需求。据(jù)东(dōng)京电子披(pī)露,薄(báo)膜沉积设备及(jí)刻蚀占3D NAND产线(xiàn)资本(běn)开支合计为75%。自长江(jiāng)存储(chǔ)被加入美国限制名单(dān),设备国产化(huà)进程加(jiā)速,看好拓荆科技(jì)(薄膜沉积)等相关公司份额提升,以及存储业(yè)务占比较高(gāo)的华海清科(kē)(CMP)、盛(shèng)美上海(清(qīng)洗)等(děng)收入(rù)增长。

 

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