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特利迦奥特曼的脚底痒怎么办,奥特曼的脚怕痒吗

特利迦奥特曼的脚底痒怎么办,奥特曼的脚怕痒吗 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家(jiā)好(hǎo),来看一则突(tū)发(fā)消息(xī)。

  美光公司在华销售的产品未(wèi)通过(guò)网络安全审查(chá)

  据网信办消息,日前,网(wǎng)络安全审查办(bàn)公室(shì)依(yī)法对美(měi)光公司在华销售产品进行了网络安全审查。

  审查发现(xiàn),美(měi)光(guāng)公司产品存在较严重网络安全问题隐(yǐn)患,对我国(guó)关(guān)键信息基础设施供应链造成重(zhòng)大安全风险(xiǎn),影响(xiǎng)我(wǒ)国国家安全(quán)。为此,网(wǎng)络安全审查办公室依法(fǎ)作出(chū)不予通过网(wǎng)络安(ān)全审查的结论。按照《网络安全法》等法律法(fǎ)规,我国内关键信息基础设施(shī)的运营者(zhě)应停止采购美光公司产品。

  此次对美(měi)光公司产品(pǐn)进行网络(luò)安全审查,目(mù)的是防范产品网络安全问题危害国(guó)家关键信(xìn)息基础(chǔ)设施安全,是维(wéi)护(hù)国(guó)家安全的必要(yào)措施。中国坚定(dìng)推进高水平对外开放,只要遵守中国法律法规要求(qiú),欢(huān)迎(yíng)各国(guó)企业(yè)、各类平台(tái)产品服务进入中国(guó)市场。

  半导体突发!中国出手:停(tíng)止采购!

  3月31日,中国网信网发(fā)文称(chēng),为保障关键信息基础设施(特利迦奥特曼的脚底痒怎么办,奥特曼的脚怕痒吗shī)供(gōng)应(yīng)链安全,防范产品问题隐患(huàn)造(zào)成网络(luò)安全风险,维护(hù)国家安全,依据《中华人(rén)民共和国国家安全法》《中华人民共和国(guó)网络安全(quán)法》,网络安全审查办公室(shì)按照《网络安全审查办(bàn)法》,对美光(guāng)公(gōng)司(Micron)在华销售的产品实施网络安全审查。

  半导体突发!中(zhōng)国出手:停止采(cǎi)购!

  美光是美国的存储芯(xīn)片行业龙头,也(yě)是全球存储芯片(piàn)巨头(tóu)之一,2022年(nián)收入来自中国市场收入(rù)从此前高峰57%降至2022年(nián)约11%。根据市场(chǎng)咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年(nián)三星(xīng)电(diàn)子、 铠侠、西(xī)部数据、SK 海(hǎi)力士、美(měi)光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额约为 96.76%,三星电子、 SK 海力士(shì)、美光在全(quán)球 DRAM (内(nèi)存)市场份(fèn)额(é)约(yuē)为 94.35%。

  A股(gǔ)上(shàng)市公(gōng)司(sī)中,江波龙、佰维存储等公司披露过美光等国(guó)际存(cún)储(chǔ)厂商为公司(sī)供应商。

  美光在江波龙采购占(zhàn)比(bǐ)已(yǐ)经(jīng)显(xiǎn)著(zhù)下降,至少(shǎo)已(yǐ)经(jīng)不是主要大供(gōng)应商。

  公告显示, 2021年美光位(wèi)列江波龙第一大存(cún)储晶圆供应商(shāng),采购(gòu)约31亿元,占比33.52%;2022年,江波龙第一大、第二大(dà)和第(dì)三(sān)大供应商采购(gòu)金额(é)占比分别是26.28%、22.85%和(hé)5.76%。

  目前江波龙已经(jīng)在存储产业链上下游建立国内外广泛合(hé)作。2022年年报显示,江(jiāng)波龙与三(sān)星、美光、西部(bù)数据(jù)等主要(yào)存(cún)储晶圆原厂签署了(le)长期合约(yuē),确保存储(chǔ)晶(jīng)圆(yuán)供应的(de)稳定性,巩固公司在下(xià)游(yóu特利迦奥特曼的脚底痒怎么办,奥特曼的脚怕痒吗)市(shì)场的供应(yīng)优势,公司也(yě)与(yǔ)国内(nèi)国产存储晶圆原厂武汉长江存储、合肥长鑫保持良好的合作。

  有券商此(cǐ)前就分析,如(rú)果美光在中国区销(xiāo)售受到限制,或将导致下游客户转而采购国外三星、 SK海力士,国内长江存储、长鑫存储等竞(jìng)对产(c特利迦奥特曼的脚底痒怎么办,奥特曼的脚怕痒吗hǎn)品

  分(fēn)析称(chēng),长存(cún)、长(zhǎng)鑫的上游设备厂(chǎng)或从中受益。存储器的(de)生产(chǎn)已经演进到1Xnm、1Ynm甚(shèn)至(zhì)1Znm的工艺。另外NAND Flash现(xiàn)在(zài)已经进(jìn)入(rù)3D NAND时代,2 维到3维的结构转变使刻(kè)蚀(shí)和薄膜(mó)成为最(zuì)关键、最大量(liàng)的加工设备(bèi)。3D NAND每层均(jūn)需(xū)要经过薄膜沉(chén)积(jī)工(gōng)艺步骤(zhòu),同时(shí)刻(kè)蚀目前前(qián)沿要刻到 60:1的深孔,未来(lái)可能(néng)会更深的孔或者沟槽,催生更(gèng)多(duō)设备(bèi)需求。据东京电子披露(lù),薄膜(mó)沉积设备(bèi)及刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本开支合(hé)计为75%。自长江存(cún)储被加入美国限制名(míng)单,设备(bèi)国产化进(jìn)程加速(sù),看(kàn)好拓荆科(kē)技(薄膜沉(chén)积)等(děng)相关公司份额提升(shēng),以及存储业务占比较高的华海清(qīng)科(CMP)、盛美上海(清洗(xǐ))等(děng)收入增长。

 

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