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戴偏旁是戈还是十字旁,戴偏旁是戈还是十一画 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月(yuè)24日消(xiāo)息,国(guó)家知识产权局局长申长雨(yǔ)在新闻发布会上(shàng)表示,将(jiāng)统(tǒng)筹推进(jìn)各类知识产权法(fǎ)律法(fǎ)规和制度规戴偏旁是戈还是十字旁,戴偏旁是戈还是十一画则的制(zhì)修订工作。其中(zhōng),修(xiū)改完善(shàn)集成电路(lù)布图(tú)设计(jì)保(bǎo)护(hù)条例,适(shì)应大(dà)规(guī)模集成(chéng)电路(lù)发展需要,助力芯片产业做(zuò)大(dà)做强,服务(wù)数字(zì)经济更好发展。

  加(jiā)强(qiáng)大数据、人工智能、基因技术等新领域(yù)新业态知识(shí)产权规则(zé)研究(jiū),助力相(xiāng)关(guān)领域创新发展(zhǎn)。同时,积极参(cān)与知识产权国际规(guī)则制定,更(gèng)好对(duì)接(jiē)高标准国际(jì)经贸规则,助力高水平对外开(kāi)放。

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