金(jīn)融界(jiè)4月(yuè)24日消(xiāo)息，国家知识产权局局(jú)长申长雨在新闻发布会上表(biǎo)示，将(jiāng)加快推(tuī)动完(wán)成专利法实施细则修改，促(cù)进(jìn)专利开放许可、实用新型明显(xiǎn)创(chuàng)造性审查、外观(guān)设计明(míng)显区别审查等新修改(gǎi)内容实施，积极推(tuī)进实用新型制度改革，做好我国加入海牙协定后的审(shěn)查管理，全面融(róng)入(rù)全球外(wài)观(guān)设计体(tǐ)系。

　　加快新一轮商标法(fǎ)的修(xiū)改论证，着力解决商标领域(yù)恶意抢(qiǎng)注、大(dà)量囤(dùn)积等(děng)深层次矛盾(dùn)和(hé)问题。

　　修(xiū大学所在年级怎么填写才正确，大学所在年级一栏填什么)改完善(shàn)集成电路(lù)布图设计(jì)保护条(tiáo)例，适应大规模(mó)集成电路发展需(xū)要，助(zhù)力芯片产业(yè)做(zuò)大做强(qiáng)，服务数字经济更(gèng)好发(fā)展。