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欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好,欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国家知识产权局局长申(shēn)长雨在新(xīn)闻发布会上表(biǎo)示,将统筹推进各类(lèi)知识产权法律法规和制度规(guī)则的制(zhì)修订工作。其(qí)中,修改完善集成电(diàn)路布(bù)图设(shè)计保护条例,适应大规模集(jí)成(chéng)电路发展需要,助力芯(xīn)片产(chǎn)业(yè)做大做强,服务数字经济更好(hǎo)发展。

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  加强大(dà)数据、人工智(zhì)能、基因技术等(děng)新领域新业态知识产(chǎn)权规则(zé)研究,助力相关领域创(chuàng)新发展。同时,积极(jí)参与知识(shí)产权国际(jì)规(guī)则制定,更(gèng)好对接高标(biāo)准(zhǔn)国际经(jīng)贸(mào)规则,助力高水平对外(wài)开(kāi)放。

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