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双曲线虚轴的位置,双曲线虚轴有什么意义

双曲线虚轴的位置,双曲线虚轴有什么意义 半导体突发!中国出手:停止采购!

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  美光公司在华销售的产品未(wèi)通过(guò)网络安(ān)全审查

  据(jù)网信办消息,日前(qián),网(wǎng)络安全审查办公(gōng)室依法(fǎ)对(duì)美光公司在华销售产品进行了网络安全审查。

  审(shěn)查发现,美(měi)光公司产(chǎn)品存在较严(yán)重网络安全问题隐患,对(duì)我国(guó)关键信(xìn)息基础设施供应(yīng)链造成重大安全风险,影响我国国家安全(quán)。为此,网络(luò)安(ān)全(quán)审(shěn)查办公室依法作出不予通过网(wǎng)络安全审查的结论。按照《网络安(ān)全法》等(děng)法律法规,双曲线虚轴的位置,双曲线虚轴有什么意义ng>我国内关键信息基础设施的运营者应停止采购(gòu)美光公司产品。

  此次对(duì)美光(guāng)公司产品(pǐn)进行网络安全审查,目的是防范产品(pǐn)网络安全问(wèn)题危害国家关键信息基础(chǔ)设施安全,是维护国家安全的必要(yào)措施(shī)。中国(guó)坚定推进(jìn)高(gāo)水平对外开放(fàng),只(zhǐ)要遵守(shǒu)中国法律法规要(yào)求,欢迎各(gè)国企业、各类平台(tái)产品服务进入中国(guó)市场。

  半(bàn)导体突发!中(zhōng)国出手:停止采购!

  3月31日,中国网信网发文称,为保障(zhàng)关键信息基(jī)础设施供应链安全,防范产品问(wèn)题隐患造成网(wǎng)络(luò)安全风险,维护国家安全,依据《中华人民共和国国(guó)家安全法》《中华人民共和(hé)国网络安全法》,网络安全审查办(bàn)公室按照《网络安全审查办法》,对美光公(gōng)司(Micron)在华销售的产(chǎn)品实(shí)施网(wǎng)络安全审查。

  半导体突发!中国出(chū)手:停止采购(gòu)!

  美光(guāng)是(shì)美国的存储(chǔ)芯片行(xíng)业(yè)龙头(tóu),也是全球存(cún)储芯(xīn)片(piàn)巨头之一,2022年收(shōu)入(rù)来(lái)自(zì)中国(guó)市场(chǎng)收入从此(cǐ)前高(gāo)峰(fēng)57%降(jiàng)至2022年约11%。根据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠(kǎi)侠、西部(bù)数据、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在(zài)全球(qiú) NAND Flash (闪存)市场份(fèn)额约为(wèi) 96.76%,三星(xīng)电(diàn)子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM (内存)市场份额约(yuē)为 94.35%。

  A股上市公司(sī)中(zhōng),江(jiāng)波龙、佰维存储(chǔ)等公司披(pī)露过(guò)美光等国际存储厂商为公司供应商。

  美光(guāng)在江波龙采购占比已经显著下降,至少已经不是主(zhǔ)要大供应商。

  公(gōng)告显示, 2021年美光位列(liè)江波龙(lóng)第一大存储晶圆供应商,采购约31亿(yì)元,占比(bǐ)33.52%;2022年,江波龙第一大(dà)、第二(èr)大(dà)和第(dì)三大供应商采购(gòu)金额占比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已经在存储产(chǎn)业(yè)链上下游建立(lì)国内外广泛合作(zuò)。2022年年(nián)报显示(shì),江波龙(lóng)与三星、美(měi)光、西部数(shù)据(jù)等主要存储晶圆原厂签署了长期(qī)合约,确保存储晶圆供应的稳定性(xìng),巩固(gù)公司在下(xià)游市场的供应优势(shì),公司也与国内国(guó)产存储(chǔ)晶圆原厂武(wǔ)汉长江存储、合肥(féi)长鑫保持良(liáng)好(hǎo)的(de)合作(zuò)。

  有券商此前(qián)就分析,如果(guǒ)美光在中国区销售受到限(xiàn)制,或将导致下(xià)游客(kè)户(hù)转而采购国外三星(xīng)、 SK海力士,国内长(zhǎng)江(jiāng)存(cún)储、长鑫存储等竞对产品

  分(fēn)析(xī)称,长存(cún)、长鑫的上游设备(bèi)厂或从中受益。存储(chǔ)器的生产(chǎn)已(yǐ)经(jīng)演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工艺。另外NAND Flash现在(zài)已经进(jìn)入3D NAND时(shí)代(dài),2 维到(dào)3维(wéi)的结构转(zhuǎn)变使刻蚀和薄膜成为最关(guān)键(jiàn)、最大量的加工(gōng)设(shè)备。3D NAND每层均需(xū)要经过薄膜沉积工艺步(bù)骤(zhòu),同时刻蚀目前前沿要(yào)刻到 60:1的深孔,未来可能会(huì)更深的孔或(huò)者(zhě)沟槽,催生更多设备需求。据东京电(diàn)子披(pī)露,薄膜沉(chén)积设(shè)备及(jí)刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本(běn)开支合计为75%。自长江存储(chǔ)被加入(rù)美国(guó)限制名单,设备(bèi)国产化进程加(jiā)速,看(kàn)好拓荆科技(薄膜沉积)等相关公(gōng)司份额(é)提升,以及(jí)存储业务占比较高的华海清科(CMP)、盛美(měi)上海(hǎi)(清洗(xǐ))等收入增长。

 

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