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　　大家(jiā)好，来看一则突发消息。

　　美光公司在华销售的产品未(wèi)通过网络(luò)安全审查

　　据网信办(bàn)消(xiāo)息(xī)，日前，网(wǎng)络安全审(shěn)查办(bàn)公室依法对美光公司在(zài)华(huá)销(xiāo)售产品进行了(le)网络安全(quán)审查。

　　审查发现，美光公司产品存在较严重网络安全问题隐患，对我(wǒ)国关键信息基础设施供应链造成重大安全风险(xiǎn)，影响我(wǒ)国国家安全(quán)。为此(cǐ)，网络安(ān)全审查办公室(shì)依法作出不予通(tōng)过网(wǎng)络安全审查(chá)的结(jié)论。按照《网络安全(quán)法(fǎ)》等法律法规，我国内关键信息(xī)基(jī)础(chǔ)设施的运(yùn)营者应停止(zhǐ)采购美光公司(sī)产品。

　　此次对(duì)美光公司产品进行网络安全审(shěn)查，目的是防范产品网络安全(quán)问题危害国家(jiā)关键信息(xī)基(jī)础(chǔ)设施安全，是维护国(guó)家(jiā)安(ān)全的必要(yào)措施(shī)。中(zhōng)国坚(jiān)定推进高水平对外开放，只要遵(zūn)守(shǒu)中国法律法规要求，欢迎各国企(qǐ)业、各类平台产品服(fú)务进入中国市场。

　　3月31日，中国网信网发文称，为保(bǎo)障关键信(xìn)息基础设施(shī)供应(yīng)链安全，防范产品(pǐn)问题隐患造成网络安全(quán)风险，维护国(guó)家安(ān)全，依据《中华(huá)人(rén)民共(gòng)和(hé)国国(guó)家(jiā)安(ān)全法(fǎ)》《中华人民共(gòng)和国网(wǎng)络安全莫言的诺贝尔奖金是多少，莫言诺贝尔奖拿到多少钱法(fǎ)》，网络(l莫言的诺贝尔奖金是多少，莫言诺贝尔奖拿到多少钱uò)安全审查办(bàn)公室按照《网络(luò)安全审(shěn)查办法(fǎ)》，对美(měi)光公司(sī)（Micron）在华销售的产品实施网络安全审查。

　　美光(guāng)是美(měi)国的存储芯片行业(yè)龙头，也是(shì)全球(qiú)存(cún)储(chǔ)芯片巨头之一(yī)，2022年收(shōu)入来自中国(guó)市场收(shōu)入从此前(qián)高峰57％降(jiàng)至2022年约11％。根据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计，2021 年三(sān)星电子、 铠侠、西部数据、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在(zài)全球 NAND Flash （闪存）市场份额约(yuē)为 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美(měi)光在(zài)全(quán)球 DRAM （内(nèi)存）市场份额(é)约为 94.35％。

　　A股上(shàng)市公司中，江(jiāng)波龙、佰维存储等(děng)公(gōng)司(sī)披(pī)露(lù)过(guò)美光(guāng)等国(guó)际存储厂商为(wèi)公司供应商。

　　美光在江波龙采购占比已(yǐ)经显(xiǎn)著下降，至少(shǎo)已经不(bù)是主要大(dà)供应商。

　　公告显(xiǎn)示， 2021年(nián)美光位列(liè)江波(bō)龙第一大存储(chǔ)晶(jīng)圆供应商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年，江(jiāng)波(bō)龙第一大、第(dì)二(èr)大和第三大供(gōng)应(yīng)商采购(gòu)金(jīn)额占比(bǐ)分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前(qián)江波龙已经在(zài)存储(chǔ)产业(yè)链上(shàng)下(xià)游(yóu)建立(lì)国内外广泛合作。2022年年报(bào)显示，江波(bō)龙与三(sān)星、美光、西部数据等主要存(cún)储晶圆原厂签署了长期合约，确保存储晶圆供应的稳定性(xìng)，巩固公司在(zài)下游市场的(de)供(gōng)应优势，公(gōng)司也(yě)与国内国产(chǎn)存储(chǔ)晶圆原厂武汉长江存储(chǔ)、合(hé)肥长鑫保持良好的合作。

　　有券商此前就分(fēn)析，如果(guǒ)美光在(zài)中(zhōng)国区销售受到限制，或(huò)将导(dǎo)致下游客户(hù)转而采(cǎi)购国外三星、 SK海力士，国(guó)内长江(jiāng)存储、长鑫存储等竞对(duì)产品

　　分析称，长(zhǎng)存、长鑫的上游设备厂或从中受益(yì)。存储器的(de)生产已经(jīng)演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺(yì)。另外(wài)NAND Flash现在已经(jīng)进入3D NAND时代，2 维到3维的结构(gòu)转(zhuǎn)变使刻蚀和薄膜成为最关键、最(zuì)大量的加工设(shè)备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积(jī)工(gōng)艺步骤，同时刻蚀目(mù)前前沿要刻到(dào) 60：1的(de)深孔，未来可能会更(gèng)深的孔(kǒng)或(huò)者沟槽，催生更多设备(bèi)需求(qiú)。据东京电子披露，薄膜沉积设备及刻蚀(shí)占(zhàn)3D NAND产线资(zī)本开(kāi)支合计(jì)为75％。自长江存(cún)储被加入美国限制名单(dān)，设(shè)备国产化进程加速，看好拓荆(jīng)科技（薄(báo)膜沉(chén)积）等(děng)相(xiāng)关公司份额提升，以及(jí)存储业(yè)务(wù)占比(bǐ)较高的华(huá)海清科（CMP）、盛美上海（清洗）等收入增长。

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