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负荆请罪的历史人物是哪位人,负荆请罪的历史故事中的主要人物是谁

负荆请罪的历史人物是哪位人,负荆请罪的历史故事中的主要人物是谁 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国(guó)家知识产(chǎn)权(quán)局局长申长(zhǎng)雨在(zài)新闻发布会上表示,将统筹推进各类知识产权法律法规和制(zhì)度(dù)规则的制(zhì)修(xiū)订工作(zuò)。其中(zhōng),修(xiū)改(负荆请罪的历史人物是哪位人,负荆请罪的历史故事中的主要人物是谁gǎi)完善集成电路布(bù)图设计(jì)保护条例,适应大规模集成电路发展需要,助力芯片(piàn)产业做大做强(qiáng),服(fú)务数字经济更好发展。

  加强大数据、人工智能、基因技术等(děng)新领域新业态(tài)知识产权规则研究,助(zhù)力(lì)相关领域创新发展。同时,积极参与知识产权国际规则制定,更好对接高标准国际(jì)经贸(mào)规则,助力高水平(píng)对外开放。

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