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敷面膜前要擦水和乳液吗,正确的护肤顺序七步

敷面膜前要擦水和乳液吗,正确的护肤顺序七步 经济日报刊文:日本限制半导体设备出口必遭反噬

  5月23日,日本(běn)经(jīng)济产业省(shěng)宣布修正了(le)所谓强化高性(xìng)能(néng)半导体(tǐ)制造(zào)装置(zhì)出口管制措施的(de)省令,并(bìng)明确将(jiāng)于7月23日实施。日本此举定会对自(zì)身经济、科(kē)技发(fā)展和(hé)国(guó)际形象(xiàng)造成反噬效应,最终得不偿失(shī)。

  日本经济产(chǎn)业大臣(chén)西村康稔曾在公布规(guī)则方(fāng)案时称“我们的出口限制并不针对(duì)某一特(tè)定国(guó)家”,但这种(zhǒng)“此地(dì)无银三百两”的说(shuō)法显然没有说服力。

  事实上,日本政(zhèng)府限(xiàn)制高性能(néng)半(bàn)导体设备出口指向明确,意图清(qīng)晰(xī)。从去年10月份开(kāi)始(shǐ),美(měi)国就对(duì)华实施了16纳米以(yǐ)下半导体设备出口管制措施,并多(duō)次诱压日本、荷兰等在半(bàn)导体(tǐ)设备领域(yù)具有优势地(dì)位的国(guó)家(jiā)紧跟其脚步,形(xíng)成美日荷半导体(tǐ)遏(è)华同盟(méng),试图通过出(chū)口管制阻断中(zhōng)国在尖(jiān)端(duān)半导体(tǐ)领域(yù)的(de)技术发展(zhǎn)进(jìn)程(chéng)。日本此(cǐ)次(cì)也正是顺应美国政府(fǔ)要求,强化对抗中国的姿态(tài),与(yǔ)美国敷面膜前要擦水和乳液吗,正确的护肤顺序七步沆瀣一气,将经贸(mào)和科技问题政治化、工具化、武器(qì)化,强行割裂(liè)半导(dǎo)体全球大市场,塑造封闭(bì)“小圈子”,敷面膜前要擦水和乳液吗,正确的护肤顺序七步加大尖端半导体领域(yù)对华遏制打(dǎ)压力(lì)度。

  从(cóng)西村康(kāng)稔的解释来看,日本政(zhèng)府显然在随美遏华上底气不(bù)足。一(yī)方面,日本政府难以承受正面对(duì)抗中国的后果。多家日本媒体报道认为,虽(suī)然(rán)此次管(guǎn)制(zhì)措施未(wèi)点名(míng)中(zhōng)国,但一定会引(yǐn)发中国的“强烈反制(zhì)措施(shī)”。中(zhōng)国商(shāng)务部在5月23日的答敷面膜前要擦水和乳液吗,正确的护肤顺序七步记(jì)者(zhě)问中已经明(míng)确(què),中(zhōng)方将保留(liú)采取措施的权(quán)利(lì),坚(jiān)决维护自身合法(fǎ)权益。而(ér)近日(rì)中国关键基础设(shè)施停购美光科(kē)技产品,也(yě)足以证明中(zhōng)国在半(bàn)导体反制方(fāng)面的工(gōng)具储备(bèi)十(shí)分(fēn)丰富。

  另一方面,日本政府强行随美起舞只会损害本国(guó)经(jīng)济利益。在限制出(chū)口(kǒu)规则实施后(hòu),日本东京电子(zi)、尼康等十几(jǐ)家(jiā)企业的经(jīng)营将受到直接影响。而(ér)自美国去年(nián)10月实施对(duì)华(huá)出(chū)口管制以来(lái),日(rì)本半导体(tǐ)企业(yè)整体对华(huá)出口额(é)已呈下(xià)降(jiàng)趋势。5月(yuè)23日修正案公布后,多家日半导体企业股(gǔ)价下跌。对华出口管制造成的不安全感,将迫使日(rì)半导体企业调整长期经营战略,为日本半导体产业(yè)的未来发展(zhǎn)增添了极(jí)大不确(què)定性。

  长久(jiǔ)以(yǐ)来(lái),中日两国(guó)在半导体领域分工明确,合作(zuò)紧密(mì),为世界(jiè)半导体产业发(fā)展和国际市场稳定作出了(le)突出贡献。然而(ér),为配(pèi)合美遏华举措,日(rì)本政府(fǔ)近(jìn)年来不(bù)惜挥舞经济安保(bǎo)大棒实施“无差别(bié)攻(gōng)击(jī)”,这既(jì)打伤了中日半导体等经(jīng)贸科技领(lǐng)域合作的良好基础,更打伤(shāng)了日本本国企业的(de)发(fā)展信心和前景(jǐng)。希望日本政(zhèng)府尽快修正错误,回到中日合作共(gòng)赢的(de)正轨。

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