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美国管得了比尔盖茨吗

美国管得了比尔盖茨吗 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看(kàn)一则突发消息。

  美光公司在华销售的产(chǎn)品美国管得了比尔盖茨吗未通过(guò)网络安全审查

  据网信办消息,日(rì)前,网络安全审查(chá)办公室依法(fǎ)对美光(guāng)公司在华销售产品进(jìn)行了网络安全审查。

  审查发(fā)现,美光公(gōng)司产品存在较严重(zhòng)网络(luò)安全问题隐(yǐn)患,对我国关键信息基础设施供应链造成重大安(ān)全风险,影响(xiǎng)我国国(guó)家安(ān)全。为此,网络安全(quán)审查(chá)办(bàn)公室依法(fǎ)作出不予通过网络安全审查的(de)结论。按照《网络安全法》等法律法规,我(wǒ)国内关键信息基础设施的运营者应停止采购美光公(gōng)司(sī)产(chǎn)品(pǐn)。

  此次(cì)对(duì)美光公司产品进行网络(luò)安全审查,目的是防范产品网络(luò)安(ān)全问题危害(hài)国家关(guān)键信息基础设施(shī)安全,是维护国(guó)家安全的必要措施(shī)。中国坚定推进高水(shuǐ)平对外开放,只(zhǐ)要遵守中(zhōng)国法律法规要求,欢迎各国企(qǐ)业(yè)、各类平台产(chǎn)品服务进入(rù)中国市场。

  半导体突发!中国(guó)出手:停止采购!

  3月31日(rì),中国网信网发文称,为保障(zhàng)关键信息(xī)基础设施供应链安全,防范(fàn)产品(pǐn)问题(tí)隐患造成网(wǎng)络安全风险,维护国家安全,依(yī)据《中华人民共(gòng)和国国家安(ān)全法》《中华人民共和国(guó)网(wǎng)络安全法(fǎ)》,网络安全审查(chá)办公室按(àn)照《网络安(ān)全审查(chá)办法》,对美光公司(Micron)在华(huá)销(xiāo)售的产品实施网络安全(quán)审(shěn)查。

  半导(dǎo)体突(tū)发!中国出手(shǒu):停(tíng)止采购!

  美光是美国(guó)的存储(chǔ)芯片行(xíng)业(yè)龙头,也是全(quán)球存储(chǔ)芯(xīn)片巨头之一,2022年收入来自中国(guó)市场收入(rù)从(cóng)此前高(gāo)峰57%降至(zhì)2022年约11%。根据市(shì)场(chǎng)咨(zī)询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠侠、西部数据、SK 海力士(shì)、美(měi)光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份(fèn)额(é)约为 96.76%,三星(xīng)电子(zi)、 SK 海(hǎi)力士、美光在全球 DRAM (内存)市场份额约为 94.35%。

  A股上(shàng)市(shì)公司(sī)中,江波龙、佰维(wéi)存储等公司(sī)披(pī)露过美光等国际存储(chǔ)厂商为(wèi)公司供(gōng)应商。

  美光在江波(bō)龙采购(gòu)占比已经显著下降,至少已经不是主要大供(gōng)应(yīng)商。

  公告显示, 2021年(nián)美光位(wèi)列江波龙第一大存储(chǔ)晶圆供应商(shāng),采(cǎi)购约31亿(yì)元,占(zhàn)比33.52%;2022年,江波龙第一大、第二(èr)大和(hé)第三大供应商采购(gòu)金额占(zhàn)比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙(lóng)已经在(zài)存(cún)储产业链上下(xià)游建立国内(nèi)外广泛合作(zuò)。2022年年(nián)报显(xiǎn)示,江波龙(lóng)与三星、美(měi)光(guāng)、西(xī)部数据等(děng)主要存储晶圆原(yuán)厂签(qiān)署(shǔ)了(le)长期合约,确保存储晶圆供(gōng)应的稳(wěn)定(dìng)性,巩固(gù)公司在下游市场(chǎng)的供应优势,公司(sī)也与国内(nèi)国(guó)产存储晶圆(yuán)原厂武汉长江存(cún)储、合肥长鑫(xīn)保(bǎo)持(chí)良(liáng)好的合(hé)作。

  有券商此前就分析,如(rú)果美光(guāng)在(zài)中(zhōng)国区销售受到限制,或(huò)将(jiāng)导致下游客(kè)户转而采购国外三(sān)星、 SK海力士,国(guó)内长(zhǎng)江存储、长鑫存储等(děng)竞(jìng)对产品(pǐn)

  分析(xī)称,长存(cún)、长鑫的上游设备厂或从(cóng)中受益。美国管得了比尔盖茨吗>存储器的(de)生产已经(jīng)演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工(gōng)艺。另(lìng)外(wài)NAND Flash现在(zài)已经进入3D NAND时代(dài),2 维到3维的结构转变使刻蚀和(hé)薄膜成为最关键、最(zuì)大量的加工设备。3D NAND每层均需要(yào)经过薄膜沉(chén)积工艺(yì)步骤,同时(shí)刻蚀目前(qián)前沿要刻(kè)到 60:1的深孔,未来(lái)可(kě)能(néng)会更深(shēn)的(de)孔(kǒng)或者(zhě)沟槽,催生(shēng)更多设备需求。据东京(jīng)电子披露(lù),薄膜沉积设备(bèi)及刻蚀占3D NAND产线(xiàn)资(zī)本开支合计为(wèi)75%。自长江存储被加(jiā)入美(měi)国限制名(míng)单,设备国产化(huà)进程加速,看(kàn)好拓荆(jīng)科技(jì)(薄膜沉积)等相关公司份额提升,以及存储(chǔ)业务占比较高的华海清(qīng)科(CMP)、盛(shèng)美(měi)上海(清洗)等收入(rù)增(zēng)长(zhǎng)。

 

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