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异丁烯结构式图片,异丁烯结构式怎么写 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè)24日(rì)消息,国家(jiā)知识产权局局长申长雨在(zài)新闻发(fā)布会上表示,将(jiāng)统筹推(tuī)进各类知识产权法律法规(guī)和制度规则的制修订工作。其(qí)中,修改(gǎi)完善集成电路布图(tú)设计保护条例,适应大规模集成电路发(fā)展(zhǎn)需要,助力芯片产业做大做强,服务数字经(jīng)济更(gèng)好发展(zhǎn)。

  加(jiā)强大数据、人(rén)工智(zhì)能、基(jī)因技术等新领域新业态知识产权规则研究,助力相关领域创新发展。同时,积极异丁烯结构式图片,异丁烯结构式怎么写参与知识产权(quán)国际规则制定,更(gèng)好对接高标准国际经贸规则,助(zhù)力(lì)高水平对外开放(fàng)。

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