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二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式,二氧化硫与溴水反应方程式双线桥 经济日报刊文:日本限制半导体设备出口必遭反噬

  5月23日,日(rì)本经济产(chǎn)业省宣(xuān)布修(xiū)正了(le)所(suǒ)谓强化高性能半(bàn)导体制造(zào)装置出(chū)口管制措施的省令,并(bìng)明确(què)将于7月23日实(shí)施。日本此举定会对(duì)自身经(jīng)济、科技发展和国(guó)际形象造(zào)成反噬效应(yīng),最终得不偿(cháng)失。

  日本经济(jì)产业大(dà)臣西村康(kāng)稔曾在公布规则方案时称“我们的出口(kǒu)限(xiàn)制并不(bù)针对(duì)某一(yī)特定国家”,但(dàn)这种“此(cǐ)地无银三(sān)百两(liǎng)”的说(shuō)法显然没有(yǒu)说服力。

  事实(shí)上,日(rì)本政府限制(zhì)高性能(néng)半导(dǎo)体设备出口(kǒu)指向明确,意(yì)图清(qīng)晰。从去年10月份开始,美国就对华实(shí)施了(le)16纳米以下半导体设备出口管(guǎn)制措(cuò)施,并多次诱压日本、荷兰(lán)等在半导体设备领域具有优势地位(wèi)的国家(jiā)紧跟其(qí)脚步,形成(chéng)美(měi)日(rì)荷半导(dǎo)体遏(è)华同盟,试(shì)图通(tōng)过出口管(guǎn)制阻断中国在尖端半导体(tǐ)领域的技(jì)术发展进(jìn)程。日本此(cǐ)次也正是顺应美国政府要求,强(qiáng)化对抗中国(guó)的姿态(tài),与美国沆瀣(xiè)一气,将经(jīng)贸(mào)和科(kē)技问题政治化、工具化、武器化(huà),强行割裂半导(dǎo)二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式,二氧化硫与溴水反应方程式双线桥体全球大市场,塑(sù)造封闭(bì)“小圈子”,加大尖端半导(dǎo)体领域(yù)对(duì)华遏制打(dǎ)压(yā)力度。

  从西村康稔的(de)解释来看,日本政府显然在随美遏华上底气不足。一方(fāng)面,日(rì)本政府难(n二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式,二氧化硫与溴水反应方程式双线桥#ff0000; line-height: 24px;'>二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式,二氧化硫与溴水反应方程式双线桥án)以承(chéng)受正面对抗中国的(de)后果。多家日本媒体报道认为(wèi),虽然此次管制措施(shī)未点名中国,但一定会引(yǐn)发中(zhōng)国的“强(qiáng)烈反制措施(shī)”。中国商(shāng)务(wù)部在5月23日的答(dá)记者(zhě)问中已经明(míng)确,中方将保留采取(qǔ)措施的权利(lì),坚决(jué)维护自身(shēn)合法权益。而近日中国关键基(jī)础设(shè)施停购美(měi)光科(kē)技产品(pǐn),也足以证明中国(guó)在半(bàn)导体反制(zhì)方(fāng)面的工具储(chǔ)备十分丰富。

  另一方(fāng)面(miàn),日本政(zhèng)府强行(xíng)随美起舞只会(huì)损害本国经济利益。在(zài)限制出(chū)口规则实(shí)施后,日本东京电子、尼康等十几家企业的经(jīng)营将受到直接影响。而自(zì)美国(guó)去(qù)年10月实施对华出(chū)口管制以来,日本半(bàn)导体(tǐ)企业整(zhěng)体对华(huá)出口额已呈下降趋势。5月23日修正(zhèng)案(àn)公布(bù)后,多家日半导体(tǐ)企业股价下跌。对华出口管制造成的不安全感,将迫(pò)使日半(bàn)导体企(qǐ)业调整长期经营战略,为日本半(bàn)导(dǎo)体产业的未来发展增添了极(jí)大不(bù)确定性。

  长久以来(lái),中日两国(guó)在半导体领域分工明确(què),合作紧(jǐn)密,为世界半(bàn)导体产业发(fā)展和(hé)国际市场稳定作出了(le)突出(chū)贡(gòng)献。然而(ér),为配合美遏华举措,日本政府近年来不惜挥(huī)舞(wǔ)经济安保(bǎo)大棒实施“无差别攻(gōng)击”,这(zhè)既打(dǎ)伤了(le)中日半导体等经贸科技领域合作(zuò)的良好(hǎo)基(jī)础,更打(dǎ)伤了(le)日本(běn)本国企(qǐ)业的发展信心和前景。希望日本政(zhèng)府(fǔ)尽快修正错误,回到中日合作(zuò)共赢的(de)正轨。

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