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欧莱雅精华肌底液好用吗,欧莱雅肌底液的作用和功效 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一则突发消息。

  美(měi)光公司在(zài)华(huá)销(xiāo)售(shòu)的产品未通过网络安全审查

  据网信办消息(xī),日前,网络安全(quán)审查办公室(shì)依法对美光(guāng)公司在华销售产品进(jìn)行(xíng)了(le)网络(luò)安全审查。

  审查发(fā)现,美光(guāng)公司产(chǎn)品存在(zài)较严重网络安全问题隐患,对(duì)我国关键信息基(jī)础设施供应链造成重大安全风险,影响我国(guó)国家安全(quán)。为此,网络安全审(shěn)查办公室依法作出不予(yǔ)通(tōng)过网络安全审查(chá)的结论。按照《网络安全法(fǎ)》等法律法(fǎ)规,我国内关键(jiàn)信息基础(chǔ)设施的运营者应(yīng)停止采(cǎi)购(gòu)美(měi)光公(gōng)司(sī)产品。

  此次(cì)对美光公司产品进行网络安(ān)全审查,目的是(shì)防范产品网络安全问题危害国(guó)家关键(jiàn)信息基础设施安全,是维护国(guó)家安(ān)全的必要措施。中国坚定推进高水平对外开放(fàng),只要遵守中国法律法规要求,欢迎(yíng)各(gè)国企业、各类平(píng)台产品服务进入中国(guó)市场。

  半导体突发!中国出手:停止采(cǎi)购!

  3月31日,中国网信(xìn)网发(fā)文称,为保障关键(jiàn)信息基(jī)础(chǔ)设施(shī)供应链安全(quán),防范产(chǎn)品问题(tí)隐(yǐn)患造成网络安全风险(xiǎn),维护国(guó)家安全,依(yī)据《中华人民共和国(guó)国家安(ān)全法》《中(zhōng)华人民共和国网欧莱雅精华肌底液好用吗,欧莱雅肌底液的作用和功效络(luò)安全法(fǎ)》,网(wǎng)络(luò)安全审查(chá)办(bàn)公室按照《网络安全审查办法(fǎ)》,对(duì)美光公司(Micron)在华销售的产(chǎn)品欧莱雅精华肌底液好用吗,欧莱雅肌底液的作用和功效(pǐn)实(shí)施网(wǎng)络安全审查。

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  美光(guāng)是美国的存(cún)储芯片行业龙头,也是全球(qiú)存储芯片巨头之一,2022年收入来自中国市(shì)场(chǎng)收入从此前(qián)高(gāo)峰57%降至2022年约11%。根(gēn)据市(shì)场咨询(xún)机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠(kǎi)侠、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额约(yuē)为 96.76%,三星电(diàn)子、 SK 海力士、美光在全(quán)球 DRAM (内存)市场份(fèn)额约为 94.35%。

  A股上市(shì)公司中,江(jiāng)波龙(lóng)、佰维存储等公司披露过(guò)美光(guāng)等国际存储厂商(shāng)为公(gōng)司供应商。

  美(měi)光(guāng)在江波龙采(cǎi)购占比已经显著下降(jiàng),至(zhì)少已经不是主要大供(gōng)应商。

  公告显(xiǎn)示, 2021年美光(guāng)位列江波(bō)龙第一大存储晶(jīng)圆供(gōng)应(yīng)商,采购(gòu)约31亿元,占比(bǐ)33.52%;2022年(nián),江(jiāng)波龙(lóng)第一大、第二大和第三大(dà)供应商(shāng)采购金(jīn)额占比分别(bié)是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前(qián)江波龙已经在存储产业链(liàn)上下(xià)游建(jiàn)立(lì)国(guó)内外广(guǎng)泛合作。2022年年报显示,江波(bō)龙与三星、美光(guāng)、西部(bù)数据等主要(yào)存储晶圆原厂签署了长期合约,确(què)保存储晶圆供应的稳定(dìng)性,巩(gǒng)固公司(sī)在下游市场的供应优势,公司也与(yǔ)国内(nèi)国产存储晶圆原厂(chǎng)武(wǔ)汉长江存储、合肥长鑫(xīn)保持良好的合(hé)作(zuò)。

  有券商此前(qián)就(jiù)分(fēn)析,如果(guǒ)美(měi)光在中国区销售(shòu)受(shòu)到(dào)限制,或将(jiāng)导致下(xià)游客(kè)户转而采购国外三星、 SK海力士,国内长江存储、长鑫存储等竞(jìng)对(duì)产品

  分析(xī)称(chēng),长存、长鑫的上游设(shè)备(bèi)厂或从中受益。存储器的生产(chǎn)已经演进到1Xnm、1Ynm甚(shèn)至1Znm的工(gōng)艺。另外(wài)NAND Flash现在已经进入(rù)3D NAND时代,2 维(wéi)到3维的结构转变(biàn)使刻蚀(shí)和薄膜成为最关键(jiàn)、最大量的加(jiā)工设备。3D NAND每层均需要经过(guò)薄膜(mó)沉(chén)积工艺步骤,同时刻蚀目(mù)前前沿要刻到 60:1的深孔(kǒng),未(wèi)来可能会更深的(de)孔或者(zhě)沟(gōu)槽,催(cuī)生更多设备需求。据(jù)东京(jīng)电(diàn)子披露,薄膜沉(chén)积设(shè)备及刻蚀占3D NAND产线资本开支(zhī)合计为75%。自长江存(cún)储被加入美国(guó)限制名单(dān),设备国(guó)产化进程加(jiā)速,看(kàn)好拓荆科技(薄膜沉积)等(děng)相关(guān)公司(sī)份额提升(shēng),以及存储业务(wù)占比较高的华(huá)海清科(CMP)、盛美上海(清洗(xǐ))等收入增长。

 

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