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沪上两支花暗指谁 沪上两支花是哪两家 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国家知(zhī)识产权局局长申长(zhǎng)雨在新闻发布会(huì)上(shàng)表示,将(jiāng)统筹推(tuī)进各类(lèi)知识产权(quán)法律(lǜ)法规和制度规则的制(zhì)修订工(gōng)作。其中沪上两支花暗指谁 沪上两支花是哪两家,修改(gǎi)完善(shàn)集成电(diàn)路布图设计保(bǎo)护条(tiáo)例,适应大规模(mó)集成电路发展需(xū)要(yào),助力(lì)芯片产业做大做强,服务数字经济更好发展。

  加(jiā)强大数据、人工智能(néng)、基(jī)因(yīn)技(jì)术等新(xīn)领域新业态知识产权规则研究,助力相关领域创新发(fā)展。同时,积极参与知识(shí)产权国际规则制定(dìng),更好对接(jiē)高标准(zhǔn)国际经贸规则(zé),助(zhù)力高水平对外开放。

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