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　　美光公司(sī)在华销售的产品未通过网络安全(quán)审查

　　据网信办消息，日前(qián)，网(wǎng)络(luò)安全审(shěn)查(chá)办公室依法(fǎ)对美光公司在华销(xiāo)售产(chǎn)品(pǐn)进行了网络安(ān)全审查。

　　审(shěn)查(chá)发现，美光公司产品存(cún)在较严重网络安全问题隐患，对我国关键信息基础(chǔ)设施供应链造(zào)成重(zhòng)大安全风险(xiǎn)，影响(xiǎng)我国国(guó)家安全。为(白面水鸡是几级保护，白面水鸡是保护动物吗wèi)此，网(wǎng)络安全审查办公(gōng)室依法作出不(bù)予通过网络安全审查的结论。按照《网络安全法》等法律法规，我(wǒ)国内关键(jiàn)信息基(jī)础(chǔ)设施的运营者应停(tíng)止采(cǎi)购美光公(gōng)司产品。

　　此次对美光公(gōng)司(sī)产品(pǐn)进行网络(luò)安全(quán)审查，目的(de)是(shì)防范(fàn)产品网络安全(quán)问题危害国家关键信息基础设施安全，是维护(hù)国家(jiā)安(ān)全的必(bì)要措施(shī白面水鸡是几级保护，白面水鸡是保护动物吗)。中国坚定推进高水平对外开放，只要遵守中国(guó)法律(lǜ)法规要求，欢迎(yíng)各国企业、各类平(píng)台(tái)产品服务进(jìn)入中国市(shì)场。

　　3月31日(rì)，中(zhōng)国网(wǎng)信网(wǎng)发(fā)文称，为保(bǎo)障关键(jiàn)信息基础设施供应链安全，防范产品(pǐn)问(wèn)题隐患造成(chéng)网络安全风险，维(wéi)护国家安全，依据《中华(huá)人民(mín)共(gòng)和国国家安(ān)全法》《中华人民共和国网络(luò)安全法》，网络(luò)安全审查办公(gōng)室(shì)按照《网(wǎng)络安(ān)全(quán)审查办(bàn)法》，对美光(guāng)公司（Micron）在华(huá)销售(shòu)的产(chǎn)品实施网络安全审(shěn)查。

　　美光是美国的存(cún)储芯(xīn)片行业(yè)龙头，也是全球存储芯(xīn)片巨头之(zhī)一，2022年收入来自中国市场(chǎng)收入从此前(qián)高峰57％降至2022年(nián)约11％。根据市场咨询(xún)机(jī)构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年(nián)三星电子、 铠侠(xiá)、西部数据、SK 海力士、美(měi)光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场(chǎng)份额约为 96.76％，三星(xīng)电子(zi)、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内(nèi)存）市场份(fèn)额约为 94.35％。

　　A股上(shàng)市公(gōng)司中(zhōng)，江波(bō)龙、佰维存储等(děng)公司披露过美光等(děng)国际存(cún)储(chǔ)厂(chǎng)商为公司供应商。

　　美光在(zài)江波龙采购占(zhàn)比(bǐ)已经(jīng)显著下降，至少已经不是主要大(dà)供(gōng)应商(shāng)。

　　公(gōng)告显示， 2021年美(měi)光(guāng)位列江波龙第一大存储晶圆(yuán)供应商(shāng)，采购约(yuē)31亿元，占比33.52％；2022年，江波(bō)龙第一大、第二(èr)大和第(dì)三(sān)大供(gōng)应商采购金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已经在存储(chǔ)产业(yè)链(liàn)上下游建(jiàn)立国(guó)内(nèi)外(wài)广泛合(hé)作。2022年年报显示，江波龙与三星(xīng)、美(měi)光、西部数据等主要(yào)存储(chǔ)晶圆原厂(chǎng)签署了长(zhǎng)期合(hé)约，确保(bǎo)存储晶圆供(gōng)应的稳定性，巩(gǒng)固公司在下游市场的供应优势，公司也(yě)与国内国(guó)产存储晶圆原厂武汉(hàn)长(zhǎng)江存储(chǔ)、合肥长(zhǎng)鑫保持良好的(de)合作。

　　有券商(shāng)此前就(jiù)分析，如果美光在中国区销售受到限制，或将导致下游客户(hù)转而采购国外三星、 SK海力士，国内长江(jiāng)存储、长鑫存储等竞对(duì)产品(pǐn)

　　分析称，长存、长鑫的上游设(shè)备厂或从中受益。存(cún)储器的生(shēng)产(chǎn)已经(jīng)演进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的(de)工艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代(dài)，2 维到3维的结构(gòu)转变使刻蚀和(hé)薄膜成为最关键、最(zuì)大量的(de)加工设(shè)备(bèi)。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积工艺步骤，同时刻(kè)蚀目前(qián)前沿要刻(kè)到 60：1的深孔，未(wèi)来可能会(huì)更深的孔或(huò)者(zhě)沟槽(cáo)，催生更(gèng)多设备需求。据东(dōng)京电(diàn)子披露，薄膜(mó)沉(chén)积设备及刻蚀占3D NAND产线资本开支合计(jì)为(wèi)75％。自长江存储被加入美国限(xiàn)制名(míng)单，设备国(guó)产化进(jìn)程加速(sù)，看好拓荆科技（薄膜沉积）等相关(guān)公司(sī)份额(é)提升(shēng)，以及存(cún)储(chǔ)业务占比较高的(de)华(huá)海(hǎi)清科（CMP）、盛(shèng)美(měi)上海（清洗）等收(shōu)入增长。

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