大家好(hǎo)，来看一则突发消(xiāo)息(xī)。

　　美光公司在华销售的产品未通过网络安全审查

　　据网信办消息(xī)，日粤语顶你个肺是脏话吗，顶你个肺真正意思(rì)前，网络安全审查办公室依法对美光公司在华销售产品进行了网络安全(quán)审查。

　　审查发现，美光公司产品存在较(jiào)严重(zhòng)网络安(ān)全问题隐(yǐn)患(huàn)，对(duì)我(wǒ)国(guó)关键信息基(jī)础设施供应(yīng)链(liàn)造成重(zhòng)大(dà)安全(quán)风险，影响我国(guó)国家安(ān)全。为此(cǐ)，网(wǎng)络(luò)安全审查(chá)办公(gōng)室依法作(zuò)出不予通过网络安全审查的(de)结论。按(àn)照《网络安全法(fǎ)》等法律法规，我国内关(guān)键信(xìn)息基(jī)础设施的运营者(zhě)应停止采购美光(guāng)公司产品(pǐn)。

　　此(cǐ)次对美光公(gōng)司产(chǎn)品进(jìn)行网络(luò)安全审查，目的是防范产品网络安全(quán)问(wèn)题危害国家关键(jiàn)信(xìn)息基础设施(shī)安全，是维(wéi)护国家安全(quán)的必(bì)要措(cuò)施。中国坚(jiān)定推进高水平对外开放，只要(yào)遵(zūn)守中国法律法规(guī)要求(qiú)，欢迎各国企(qǐ)业、各类平(píng)台产品服(fú)务进入中(zhōng)国市场。

　　3月31日(rì)，中(zhōng)国(guó)网(wǎng)信网(wǎng)发文称，为保障关键信息基础设施供(gōng)应链安全，防范(fàn)产粤语顶你个肺是脏话吗，顶你个肺真正意思品问题隐(yǐn)患造成(chéng)网络安全风险，维护国家安全，依据《中华人民共和国国(guó)家安全(quán)法(fǎ)》《中(zhōng)华人民共和(hé)国网(wǎng)络安全法》，网络安全审查办公室按照(zhào)《网络(luò)安全审(shěn)查办(bàn)法》，对美光公司（Micron）在华销售的产品实施网络(luò)安全审查。

　　美光(guāng)是(shì)美国的存储芯(xīn)片行业(yè)龙头，也是全球存(cún)储(chǔ)芯(xīn)片巨(jù)头之一，2022年收入来自中国市场收入从(cóng)此前(qián)高峰57％降至2022年约11％。根据(jù)市场咨询机(jī)构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年(nián)三星电子、 铠侠、西部(bù)数(shù)据、SK 海(hǎi)力(lì)士、美(měi)光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存(cún)）市场份额约为(wèi) 96.76％，三(sān)星电子、 SK 海力(lì)士、美光在全球 DRAM （内存）市场份(fèn)额(é)约为(wèi) 94.35％。

　　A股上(shàng)市公司(sī)中(zhōng)，江波龙、佰维存储等公(gōng)司披露过美光等国际存储(chǔ)厂商为公司供应商。

　　美光在(zài)江波龙采购占比已经显著下降，至少已(yǐ)经不是主要(yào)大供(gōng)应商。

　　公告显(xiǎn)示， 2021年美光位(wèi)列江波龙第(dì)一大存(cún)储晶圆供应商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙第一(yī)大、第二大和第三大(dà)供应商采购金额占比分(fēn)别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江(jiāng)波(bō)龙已(yǐ)经(jīng)在存储产业(yè)链(liàn)上下游建立国(guó)内外广泛合作(zuò)。2022年年报显示，江(jiāng)波龙与三星(xīng)、美光、西部数据等主(zhǔ)要存(cún)储(chǔ)晶(jīng)圆原厂(chǎng)签(qiān)署(shǔ)了长期(qī)合(hé)约，确保存储晶(jīng)圆供应(yīng)的稳定性，巩固公(gōng)司在下游(yóu)市场的供应优势，公司也与(yǔ)国内国产(chǎn)存储(chǔ)晶圆原厂武汉长江存(cún)储(chǔ)、合肥长鑫保粤语顶你个肺是脏话吗，顶你个肺真正意思持良好的合作。

　　有(yǒu)券商此前就分析，如果美光在中国区销售受到限制(zhì)，或将(jiāng)导致下游客户转(zhuǎn)而采购国外三星、 SK海力士(shì)，国(guó)内长江存储、长(zhǎng)鑫存(cún)储等竞对产品

　　分析(xī)称，长(zhǎng)存、长鑫的上游设(shè)备(bèi)厂或从中受(shòu)益。存储器(qì)的生产已经(jīng)演进到1Xnm、1Ynm甚(shèn)至1Znm的工艺(yì)。另外(wài)NAND Flash现在已经进入3D NAND时代，2 维到3维的结构(gòu)转变(biàn)使刻蚀和薄膜(mó)成为最关键(jiàn)、最大量的加工设备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积工艺(yì)步骤，同时刻(kè)蚀目(mù)前(qián)前沿要刻到 60：1的(de)深孔，未来可(kě)能会(huì)更深的(de)孔或者(zhě)沟(gōu)槽，催生更多(duō)设备(bèi)需(xū)求。据(jù)东京电(diàn)子披露，薄(báo)膜沉积(jī)设备(bèi)及刻蚀占3D NAND产线资本(běn)开支合计为75％。自长江(jiāng)存储被(bèi)加入(rù)美国限制名单，设备(bèi)国产化进程加速，看好拓荆科技(jì)（薄膜沉积）等相(xiāng)关公司份额提(tí)升(shēng)，以(yǐ)及存储业(yè)务占比较高(gāo)的华(huá)海清科（CMP）、盛美上海（清洗）等收入增长。

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